小型真空鍍膜機(jī)是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設(shè)計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng),機(jī)架電控一體化設(shè)計,整體布局緊湊合理,充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所教學(xué)、制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等,特別適合太陽能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開發(fā)領(lǐng)域。
小型真空鍍膜機(jī)主要特點/優(yōu)勢:
★ 玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;
★ 復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準(zhǔn)無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);
★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計;
★ 專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;
★ 可鍍110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;
★ 襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;
★ 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性,可在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚;
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
★ 設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小(0.92平米);設(shè)備配腳輪,方便移動和定位。