真空鍍膜設(shè)備通常由多個(gè)關(guān)鍵部分組成,每個(gè)部分都有其特定的功能,協(xié)同工作以實(shí)現(xiàn)高效、均勻的薄膜沉積。以下是主要組成部分及其功能介紹:
主要組成部分
真空腔體:
功能:提供一個(gè)低壓或高真空環(huán)境,防止鍍膜材料在蒸發(fā)或?yàn)R射過程中與空氣中的雜質(zhì)反應(yīng),保證薄膜的純度和質(zhì)量。
結(jié)構(gòu):通常由高強(qiáng)度、不銹鋼或鋁制成,內(nèi)部設(shè)計(jì)考慮了氣流分布和基材放置的便捷性。
真空泵系統(tǒng):
功能:用于將真空腔體內(nèi)的氣體抽出,以達(dá)到所需的真空度。
類型:包括機(jī)械泵(如旋片泵)、渦輪分子泵、擴(kuò)散泵和離子泵等。
蒸發(fā)源或?yàn)R射源:
功能:加熱并蒸發(fā)鍍膜材料,使其在真空中形成蒸氣或等離子體。
類型:包括電阻加熱源、電子束蒸發(fā)源、磁控濺射源和激光蒸發(fā)源等。
基材支架和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu):
功能:固定基材,并通過旋轉(zhuǎn)或擺動(dòng)確保鍍膜材料均勻地沉積在基材表面。
結(jié)構(gòu):通常包括可調(diào)節(jié)的夾具和旋轉(zhuǎn)/擺動(dòng)裝置,以適應(yīng)不同形狀和尺寸的基材。
電源和控制系統(tǒng):
功能:為蒸發(fā)源、濺射源和其他設(shè)備提供電力,并控制整個(gè)鍍膜過程的參數(shù),如溫度、真空度和時(shí)間。
組件:包括電源供應(yīng)器、控制面板、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)和監(jiān)測(cè)傳感器等。
氣體供應(yīng)系統(tǒng)(對(duì)于濺射鍍膜設(shè)備):
功能:供應(yīng)惰性氣體(如氬氣)或反應(yīng)氣體(如氧氣、氮?dú)?,以維持等離子體或參與化學(xué)反應(yīng)生成特定薄膜。
組件:包括氣瓶、流量控制器和氣體輸送管道等。
冷卻系統(tǒng):
功能:冷卻蒸發(fā)源、濺射源和真空腔體,防止過熱。
類型:包括水冷系統(tǒng)和風(fēng)冷系統(tǒng)等。
監(jiān)測(cè)和檢測(cè)系統(tǒng):
功能:實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜過程中的關(guān)鍵參數(shù),如薄膜厚度、沉積速率、真空度和溫度,確保鍍膜質(zhì)量。
類型:包括石英晶體微天平、光學(xué)厚度監(jiān)測(cè)儀和殘余氣體分析儀等。
防護(hù)裝置:
功能:確保操作人員和設(shè)備的安全,防止因高溫、高電壓或真空環(huán)境引起的危險(xiǎn)。
組件:包括防護(hù)罩、急停按鈕和安全聯(lián)鎖裝置等。
綜上所述
真空鍍膜設(shè)備通過這些組成部分的協(xié)同工作,實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量薄膜的沉積過程。這些設(shè)備在光學(xué)、電子、裝飾和功能性薄膜的制備中起到了至關(guān)重要的作用。