實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架,外觀漂亮,使用安全。4~12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等,特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、
OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。
主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì):
★ 封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計(jì),外觀更漂亮,使用更安全;是一臺(tái)兼具美學(xué)和用戶操控體驗(yàn)的全新升級(jí)產(chǎn)品;
★ 前開門真空腔體,方便取放基片、更換蒸發(fā)舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù);
★ 1200L/s分子泵作為主抽泵,真空極限高達(dá)8×10-5Pa(6×10-7Torr);另可選進(jìn)口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵,真空極限高達(dá)3×10-6Pa(2×10-8Torr);
★ 4~12組水冷式蒸發(fā)電極,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì),源間有防止交叉污染隔板;
★ 專業(yè)真空蒸發(fā)電源,恒流/恒功率控制。電流、功率可以預(yù)先設(shè)置,可實(shí)現(xiàn)一鍵啟動(dòng)和停止的自動(dòng)控制功能;
★ 最大140mm基片/15~25mm ITO/FTO玻璃25片/球形樣品架,可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;基片臺(tái)公轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0~25rpm連續(xù)可調(diào);
★ 襯底可選擇加熱或水冷,源基距最大350mm;
★ 更優(yōu)的薄膜均勻性和重復(fù)性,采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率、膜厚;
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
★ 設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小(1.28平米);設(shè)備配腳輪,方便移動(dòng)和定位。