全封閉顯影機(jī)優(yōu)勢(shì)
·全封閉式顯影,避免霧氣擴(kuò)散到外部,污染環(huán)境。
·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。
·內(nèi)腔鍍特氟龍,光滑,耐腐蝕,易清洗。
·內(nèi)置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。
·真空壓力可調(diào),壓力值實(shí)時(shí)顯示。
·液體流量可調(diào),回吸可調(diào)。
全封閉顯影機(jī)參數(shù)
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圓晶)
·轉(zhuǎn)速分辨率:±1 RPM
·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
·旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)
·工藝時(shí)間設(shè)定: 0-3,000sec/step,時(shí)間設(shè)置精度: 0.1sec
·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)(1路洗衣液,1路純水,1路氮?dú)?
·單步工藝及多步工藝可選,內(nèi)置100組可編輯程序
·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。
設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動(dòng),實(shí)現(xiàn)自動(dòng)顯影和清洗作業(yè)。