磁控濺射鍍膜設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體,對(duì)提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置,其靶位分布可靈活調(diào)整,膜層均勻性;配備不同的靶材,可鍍制出性能更好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng),致密性高的優(yōu)點(diǎn),可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度,滿足了高性能膜層制備的需求。
設(shè)備可適用于不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質(zhì);可制備TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等金屬化合物膜層;可實(shí)現(xiàn)深黑色、爐內(nèi)金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍(lán)、亮銀色等顏色。
該系列設(shè)備主要用于電子產(chǎn)品五金件、高檔鐘表、高檔首飾、品牌皮具五金件等。
磁控濺射鍍膜設(shè)備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術(shù)融合一體的,可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜和成膜,使膜層附著力、致密度、重復(fù)度及顏色一致性等特點(diǎn)??梢藻兘饘倌ぃ€可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。
全SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼機(jī)身,隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì)。
合理配備多套全新研制的離子弧源,有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性。
采用多路進(jìn)氣系統(tǒng),精準(zhǔn)控制氣體流量,滿足您多種化合物膜層需求。
結(jié)合脈沖偏壓技術(shù),極大提高電粒子能量,從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。
該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于:五金產(chǎn)品、玻璃工藝品、陶瓷工藝品,如衛(wèi)浴產(chǎn)品、手表鐘表、刀具、模具、水晶玻璃、高爾夫球具、燈具、眼鏡框架、瓷磚地板磚等等。
可加工的材料包括:不銹鋼、銅、鐵、鋅合金、鋁、ABS、玻璃、陶瓷等。
可鍍基材表面狀態(tài):普通電鍍亮面、啞面(半啞、全啞)、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等。
鍍制顏色有:半透明、金、銀、玫瑰金、黑、深黑、綠、藍(lán)、紫、七彩等。