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小型離子濺射儀

簡(jiǎn)要描述:小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術(shù),可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面,將材料濺射出來(lái)并沉積在底片上,從而制備出薄膜。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-09-23
  • 訪  問(wèn)  量:1602
  小型離子濺射儀參數(shù):
 
  1.腔體尺寸:石英玻璃,直徑150mm*高度130mm
 
  2.供電規(guī)格:AC220V,200w
 
  3.適用靶材:貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
 
  4.樣品臺(tái)可調(diào)高度:20~50mm
 
  5.樣品臺(tái)尺寸:直徑55mm
 
  6.工作真空度:1~10Pa
 
  7.氣體路數(shù):?jiǎn)温?br /> 
  8.氣體流量:手動(dòng)調(diào)節(jié)
 
  9.控制:觸屏控制
 
  10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
 
  11.重量:10KG
 
  12.真空泵:VRD-8
 
  小型離子濺射儀簡(jiǎn)介:
 
  1、人性化設(shè)計(jì),儀器操作簡(jiǎn)單,一鍵鍍膜。
 
  2、儀器小巧,不占空間,適用于實(shí)驗(yàn)室、科研院所等。
 
  3、鍍膜均勻細(xì)密,適用于多種靶材。
 
  4、樣品臺(tái)可以快速調(diào)節(jié),方便取放樣品。
 
  5、儀器性能可靠,設(shè)有多重安全保護(hù)機(jī)制。

 
  小型離子濺射儀是一種物理氣相沉積技術(shù),可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面,將材料濺射出來(lái)并沉積在底片上,從而制備出薄膜。相比于傳統(tǒng)的濺射技術(shù),小型離子濺射儀具有以下優(yōu)點(diǎn):設(shè)備小巧、易于操作、比較經(jīng)濟(jì)、沉積溫度較低、沉積速率高、薄膜質(zhì)量較好等優(yōu)點(diǎn)。因此,它已廣泛應(yīng)用于微納米材料和表面科學(xué)等領(lǐng)域。
 
  小型離子濺射儀是一種重要的表面處理設(shè)備,它通過(guò)將高能離子注入目標(biāo)材料表面來(lái)改變其物理和化學(xué)性質(zhì)。其主要特點(diǎn)包括:
 
  1. 尺寸小巧:通常具有較小的尺寸和體積,可以在較小的實(shí)驗(yàn)室中使用,方便實(shí)驗(yàn)者們進(jìn)行科研工作。
 
  2. 高效性能:具有較高的功率密度和離子能量,可以快速地改變目標(biāo)材料的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)。
 
  3. 穩(wěn)定性強(qiáng):采用先進(jìn)的控制技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的材料制造,具有良好的穩(wěn)定性和可靠性。
 
  4. 操作簡(jiǎn)單:使用方便,操作簡(jiǎn)單,即使對(duì)于新手也可以快速上手。
 
  5. 廣泛應(yīng)用:不僅可以應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域,而且可以應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、電子技術(shù)、能源領(lǐng)域等各個(gè)領(lǐng)域。
 
  在使用小型離子濺射儀時(shí),需要注意一些問(wèn)題,如真空度、離子束流控制、目標(biāo)材料的選擇和后續(xù)處理等問(wèn)題。只有合理地運(yùn)用小型離子濺射儀可以達(dá)到更好的實(shí)驗(yàn)效果和更高的科研成果。
 

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