離子濺射儀在樣品制備過程中為SEM用戶提供了更廣泛的選擇,以滿足支撐掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結(jié)構(gòu)設(shè)計和人機界面方面,更加注重人性、簡潔和智能。同時,通過智能人機界面,控制儀器簡單方便。同時,它可以實時估計涂層厚度,顯示真空度和濺射電流。
離子濺射儀的操作注意事項:
1、一般來說,操作距離可以調(diào)整。距離越近,濺射速度越快,但熱損傷越大。
2、在真空壓力下,離子流速越大,濺射速度越快,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量越大,產(chǎn)生的熱量就越大,所產(chǎn)生的熱量也越大,真空度越低,I越小,濺射速度就越慢,原子晶粒越細(xì),電子轟擊試樣產(chǎn)生的熱量就會越小。
3、加速電壓固定且可調(diào)。加速電壓越高,樣品的熱損失越大。通常使用金屬靶的比例范圍。
4、一些熱敏樣品需要冷卻、水冷或珀爾帖冷卻,或者可以使用磁控制設(shè)備像電磁透鏡一樣從樣品中分離電子。當(dāng)然,經(jīng)過這種改造后,將增加非常高的成本,但可以濺到蠟表面上的金屬層不會造成任何損壞!相比之下,高成本可以帶來很多好處。
5、真空中雜質(zhì)越多,涂層質(zhì)量越差。一般來說,金是相對穩(wěn)定的,可以使用空氣作為等離子氣源,而許多其他靶需要惰性氣體。
6、隨著氣體原子序數(shù)的增加,動量增加,濺射速度增加,但晶粒會變厚,連續(xù)膜會變厚。
7、真空室的清潔對高質(zhì)量涂層非常有利。
8、機械真空泵不允許長時間保持真空極限,否則容易倒油。
9、使用離子濺射儀器時,應(yīng)特別注意以上8點,保護(hù)儀器并盡可能延長其使用壽命。