全自動(dòng)離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng),對(duì)于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí),交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對(duì)試樣表面進(jìn)行清潔,之后試樣復(fù)原,再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料,有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料,氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。
全自動(dòng)離子濺射儀的使用注意事項(xiàng):
1、一般作業(yè)間隔可調(diào),間隔越近,濺射速度越快,但熱損害會(huì)添加。
2、離子流的大小通過(guò)控制真空壓力實(shí)現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結(jié)晶晶粒越粗,電子炮擊樣品(陽(yáng)極)發(fā)生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子結(jié)晶晶粒越細(xì)微,電子炮擊樣品發(fā)生的熱量小。
3、加快電壓為固定,也有可調(diào)的,加快電壓越高,對(duì)樣品熱損害越大。一般運(yùn)用金屬靶材的正比區(qū)域。
4、有些熱敏樣品,需要對(duì)樣品區(qū)進(jìn)行冷卻,水冷或許帕爾貼冷卻;也能夠選用磁控設(shè)備,像電磁透鏡相同把電子違背樣品。經(jīng)過(guò)這樣的改造,當(dāng)然會(huì)添加很高的成本。能夠在白臘外表濺射一層金屬,而沒有任何損害!
5、真空中的雜質(zhì)越多,鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定,能夠選用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
6、氣體原子序數(shù)越高,動(dòng)量越大,濺射越快,但晶粒會(huì)較粗,連續(xù)成膜的膜層較厚。
7、保持真空室的潔凈對(duì)高質(zhì)量的鍍膜有很大優(yōu)點(diǎn)。
8、不要讓機(jī)械真空泵長(zhǎng)期保持極限真空,否則簡(jiǎn)單反油。