離子濺射儀是一種緊湊的臺(tái)式鍍膜系統(tǒng),特別適用于掃描電子顯微鏡成像中非導(dǎo)電樣品的高質(zhì)量鍍膜。樣品的干燥和清洗是離子濺射鍍膜的基本要求。如有必要,應(yīng)在交換樣品和陰極位置用火花放電清潔樣品表面,然后在濺射涂層之前恢復(fù)樣品。鐵、鎳、銅和鉛是離子濺射儀器常用的陰極材料。有時(shí),電硬金、鉑、鈀、銦和其他金屬也可用作陰極材料。氧通常用作離子濺射儀器的反應(yīng)氣體。
離子濺射儀的操作說(shuō)明:
1、一般來(lái)說(shuō),工作距離是可調(diào)的。距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會(huì)增加。
2、通過(guò)控制真空壓力來(lái)實(shí)現(xiàn)離子電流的大小。真空度越低,I值越大,濺射速度越快,原子晶粒越粗,樣品(陽(yáng)極)電子轟擊產(chǎn)生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子晶粒越小,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量也較小。
3、加速電壓固定可調(diào)。加速電壓越高,樣品的熱損傷越大。通常使用金屬靶的比例面積。
4、對(duì)于一些熱敏樣品,樣品區(qū)域需要冷卻、水冷或珀?duì)栙N冷卻;磁控裝置也可用于像電磁透鏡一樣使電子從樣品中偏轉(zhuǎn)。當(dāng)然,在這種轉(zhuǎn)變之后,它將增加非常高的成本。你可以在蠟面上濺一層金屬而不會(huì)造成任何損壞!
5、真空中雜質(zhì)越多,涂層質(zhì)量越差。一般來(lái)說(shuō),金相對(duì)穩(wěn)定,空氣可以用作等離子體氣源,而許多其他靶需要惰性氣體。
6、氣體的原子序數(shù)越高,動(dòng)量越大,濺射速度越快,但晶粒越厚,連續(xù)薄膜越厚。
7、保持真空室清潔有利于高質(zhì)量涂層。
8、不要讓機(jī)械真空泵長(zhǎng)時(shí)間保持真空,否則很容易倒油。